株式会社アルバック(以下、当社)は、2024年3月13日(水)~15日(金)に東京理科大学 野田キャンパスで開催された第38回エレクトロニクス実装学会 春季講演大会(以下、本大会)において、3D・チップレット集積シャッフルカジノ ボーナスの分野で「2周波ICPを用いたSmall TSV Etchingシャッフルカジノ ボーナスの開発」と題して発表し、その内容について、全121件の一般講演の中から、学術・シャッフルカジノ ボーナス的に優れた講演発表および発表論文であると認められた5件に贈られる「優秀賞」を受賞しました。
エレクトロニクス実装学会 春季講演大会について
本大会は、エレクトロニクス実装シャッフルカジノ ボーナスに関する国内最大級の学術会議であり、実装シャッフルカジノ ボーナスに関する最新の研究成果を共有する重要な場です。
2024年で38回目の開催を迎えた本大会では、3D・チップレット集積、カーエレクトロニクス実装、ヘルスケア、ウェアラブルデバイス、バイオエレクトロニクスなど、合計22の分野で発表が行われ、現地参加、オンラインを含めた多くの産学官の参加者間で、活発な議論が交わされました。
受賞内容とシャッフルカジノ ボーナスの詳細
当社が発表した「2周波ICPを用いたSmall TSV Etchingシャッフルカジノ ボーナス」は、当社独自の2周波ICP (Inductively-coupled Plasma) という新シャッフルカジノ ボーナスを用いて、高アスペクト比かつ滑らかな側壁を持つTSV (Through Silicon Via) の製造シャッフルカジノ ボーナスを開発したことが高く評価され、受賞に至りました。
本シャッフルカジノ ボーナスにより、次世代のロジックチップ積層に不可欠なSmall TSV の特性が改善され、3Dチップレット集積シャッフルカジノ ボーナスへの応用が大きく期待されています。
「2周波ICP」シャッフルカジノ ボーナスは、異なる周波数のRFを用いて発生させたICPを同じ空間に重畳させることが特徴です。
このICPを適用したエッチング装置を使用することで、3Dチップレット集積に不可欠なTSV、特に直径約1μmのSmall TSVにおいて、エッチングと側壁保護を同時かつ連続的に行うプロセスを実現します。
このプロセスにより、従来のTSV形成プロセスであるBosch法で発生する「Scallop」と呼ばれる側壁の段差が生じず、従来にないレベルの滑らかな側壁形状を実現しました。
さらに、エッチングと側壁保護に関するパラメータの調整がTSV形状の改善に大きく寄与することも明らかにし、アスペクト比10以上の高アスペクトなTSVの作製を可能にしました。
この新シャッフルカジノ ボーナスを適用した装置とプロセスにより、滑らかな側壁を持つTSVによって実現する低い漏れ電流といった、優れた特性を持つTSVの形成に効果的であることが示されました。
今後の展望
近年、AIシャッフルカジノ ボーナスの導入が進む中で、全世界で処理されるデータ量は指数関数的に増加しており、それに比例して消費エネルギーも増加しています。
これに伴い、データセンター向けのCPUやHBM(High Bandwidth Memory)の情報処理能力の向上と消費エネルギーの高効率化が急務となっています。
本シャッフルカジノ ボーナスは、これらデバイスの高性能化と高効率化を支える重要なシャッフルカジノ ボーナスとして注目されており、産業界に広く応用されることが期待されます。
今回の受賞を機に、当社は国内メーカーとのシャッフルカジノ ボーナス交流を一層促進し、シャッフルカジノ ボーナスの実用化を加速させてまいります。
また、顧客ニーズに応えるための高度化・多様化・省エネルギー化を目指し、半導体業界全体の発展に寄与するシャッフルカジノ ボーナス革新を継続的に推進していく所存です。
関連外部サイト
・https://jiep.or.jp/event/convention/jiep2024s/assets/docs/pdf/program.pdf
・https://jiep.or.jp/event/convention/jiep2024s/index.php
・https://jiep.or.jp/event/mes/mes2024/index.php
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