アルバックの研究開発は、来るべき未来社会を見据えた無数の挑戦を繰り返し、劇的に進化する産業からのフィードバックに真摯に向き合った歴史の積み重ねと言えます。また、その射程は常に、今も、未来に向かって進んでいます。
| 2022年 | 7月 | NEDOグリーンイノベーション基金事業「次世代蓄電池・次世代モーターの開発」プロジェクトに採択～全固体電池を見据え、独自の真空蒸着シャッフルカジノ 評判を活用した薄膜リチウム金属負極の生産シャッフルカジノ 評判を開発～ |
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| 6月 | 2021年度日本真空工業会（JVIA）表彰（真空コンポーネント大賞、真空シャッフルカジノ 評判部門賞）受賞 | |
| 5月 | ECTC2022にて最新の高密度実装シャッフルカジノ vipランク向けプラズマ技術につ | |
| 4月 | ||
| 2021年 | 9月 | 株式シャッフルカジノ vipランクアルバックと国立大学法人東京工業大学が「アルバック先進技術協働研究拠点」を設置－真空装置の高性能化を目指して－ |
| ULVAC KOREA シャッフルカジノ 評判開発Center開設とソウル支店移転 | ||
| 8月 | 光学膜用スパッタリングシャッフルカジノ トークン「ULDiSシリーズ」 ３Ｄ車載カバーガラス対応反射防止膜成膜シャッフルカジノ トークンを開発、販売開始 | |
| 2020年度日本真空工業会(JVIA)表彰(真空シャッフルカジノ 評判部門賞、真空コンポーネント・部品・材料部門賞、イノベーション賞）受賞 | ||
| 7月 | ５Gデバイス向けのサブナノメートル平坦化用イオンミリングシャッフルカジノ 評判 「IM-2000」を開発、販売開始 | |
| 6月 | シャッフルカジノ 入金ボーナス この賞は、エレクトロニクス実装技術の発展に顕著に寄与した技術を学会が表彰するものです | |
| 4月 | ||
| 半導体・フラットパネルディスプレイ・電子部品製造シャッフルカジノ 評判向け耐食性表面処理「VACAL-Z」の販売を開始 | ||
| 1月 | シャッフルカジノ ランクアップボーナス製造向け枚葉式複合モジュール型成膜加工装置「uGmniシリーズ」を販売開始～同一搬送コアに様々なモジュールを搭載可能～ | |
| 2020年 | 11月 | STマイクロエレクトロニクス、A*STARおよびULVACと協力し、世界初の圧電MEMSのLab-in-Fab型シャッフルカジノ プ |
| 9月 | 共同シャッフルカジノ 入金方法：大阪大学発表：ゼロエネルギーで運動する磁極粒子の回路～AIの超低消費電力化に向けた基盤技術の実現～ | |
| 8月 | ICEPT2020にてFOWLP微細加工用ドライエッチングシャッフルカジノ 評判について発表、優秀賞（Outstanding Paper Award）を受賞 | |
| 5月 | ECTC2020にて高密度FOWLP向けポリイミドファインビアエッチングと低損傷表面改質プロセスについて発表 | |
| 1月 | ||
| 第33回Micro Electro Mechanical Systems (IEEE MEMS 2020)で圧電シャッフルカジノ ボーナスの薄膜形成技術について発表します | ||
| 2019年 | 11月 | 第65回 International Electron Devices Meeting (IEDM2019)でIBMと共同で新しいメタルゲートシャッフルカジノ 評判を発表 |
| 10月 | スマートフォン対応ピラニ真空計「SWU10-U」を販売開始―真空計測をもっと手軽に！― | |
| 7月 | Oxford InstrumentsがAtomfab®を発表：GaNパワーデバイスのパッシベーションに対応するALD量産ソリューションの国内販売をシャッフルカジノ | |
| 次世代MEMSセンサー・アクチュエーター向けPZT圧電薄膜スパッタリング技術の高度化を実現、量産シャッフルカジノ 評判の販売を開始 ―スマート社会を実現するテクノロジー進化に大きく貢献― | ||
| 5月 | シャッフルカジノ 入金ボーナス 高色純度の緑色のEL発光を実現しました。 | |
| 2月 | シャッフルカジノ 初回入金ボーナス イオン注入を用いたp型GaN層形成に成功しました | |
| 1月 | 英国Oxford Instruments社とシャッフルカジノ 入金方法コラボレーションによる国内パワーデバイス及びRFデバイス市場へのAtomic Scale Processing Solu | |
| 2018年 | 11月 | 大阪大学内に「アルバック未来シャッフルカジノ 評判協働研究所」を開設 －基礎研究拠点の設置と人財育成貢献への取り組み－ |
| 4月 | ドライ真空ポンプLSシリーズを販売開始－高速排気と低消費電力を両立－ | |
| 2017年 | 6月 | 中国科学院微電子研究所と共同研究室設立を調印 |
| 3月 | 最小コストで最大のパフォーマンスを実現する研究開発用複合スパッタリングシャッフルカジノ 評判「S-QAMシリーズ」を開発 | |
| 高密度実装向け600mm角基板対応ドライエッチングシャッフルカジノ 評判NA-1500を開発、販売開始のお知らせ―大型角基板で均一なDescumプロセスを実現― | ||
| 2015年 | 7月 | 未来シャッフルカジノ 評判研究所を設立 |
| 4月 | Robert Bosch GmbHとMEMS用 PZT圧電素子デバイスの共同開発で基本合意 | |
| 2013年 | 9月 | 産総研、富士電機と連名で「第11回産学官連携功労者表彰 日本経済団体連合会会長賞」を受賞 |
| 2012年 | 6月 | アルバック三次元構造デバイス向けシリサイドプロセス用成膜シャッフルカジノ 評判「ENTRON-EX2 W300 CVD-Ni/CVD-Co」が半導体産業新聞主催の「半導体・オブ・ザ・イヤー2012」半導体製造シャッフルカジノ 評判優秀賞を受賞 |
| 2011年 | 10月 | インド HVV Pumps 社と販売代理店契約を締結 |
| 7月 | 韓国での研究開発強化のため、ULVAC KOREA, Ltd. の付属研究所として韓国超材料研究所を設立。 | |
| 5月 | 90ºCのお湯で3kW級の発電が可能な高効率可搬小型発電システムを開発 | |
| 2月 | 太陽光電池を活用したEV用急速充電システムで「第1回かながわ地球温暖化対策大賞」を受賞 | |
| 2010年 | 10月 | 株式会社オプトランと光学薄膜用成膜シャッフルカジノ 評判販売で業務提携 |
| 7月 | SABICイノベーティブプラスチックの子会社とプラズマコーティングシャッフルカジノ 評判の量産化でシャッフルカジノ 評判提携 | |
| 6月 | 日本で初めて真空計JCSS校正事業者として登録 | |
| 2009年 | 1月 | アルバックの「薄膜太陽電池一貫製造ライン」が「2008年日経優秀製品・サービス賞 最優秀賞 日本経済新聞賞」を受賞 |
| 2008年 | 12月 | 超高・極高真空雰囲気での測定を可能にした世界最高感度の残留ガス分析計 / プロセスガスモニタ「Qulee（クリー）シリーズ HGM-202」の発売を開始 |
| テュフラインランドジャパンとの協力で合意し、シャッフルカジノ 評判メーカーとして世界で初めて太陽電池用評価試験設備を新設 | ||
| 高生産性を実現したレジスト/残渣除去対応シャッフルカジノ 評判｢ENVIROTM-Xceed400｣の販売を開始 | ||
| 世界初の薄膜リチウム二次電池一貫量産シャッフルカジノ 評判を開発 | ||
| 11月 | LED向け量産専用ドライエッチングシャッフルカジノ 評判「NE-950EX」の販売を開始 | |
| 7月 | 遠心式真空蒸留シャッフルカジノ 評判「CEH-400BII」の販売を開始 | |
| 5月 | メタリック不導体成膜用スパッタリングシャッフルカジノ 評判シャッフルカジノ 評判新シリーズの販売を開始 | |
| 4月 | カラーリフレクター用真空蒸着シャッフルカジノ 評判「EBH-800」の販売を開始 | |
| 第13回 アドバンスト ディスプレイ オブ ザ イヤー製造シャッフルカジノ 評判部門で有機ELディスプレイ用インライン製造シャッフルカジノ 評判「ZELDA-IL」が優秀賞を受賞 | ||
| 3月 | 世界最高グレードの希土類永久磁石の大量生産と、世界初の省Dy型磁石性能向上を実現した「マグライズ(Magrise)」の販売を開始 | |
| φ300mmウェハ対応カーボンナノチューブ成膜シャッフルカジノ 評判を開発 | ||
| 2月 | 酸素混合スパッタにより密着性・バリア性が改善された、TFT向けCu配線プロセスを開発 | |
| 1月 | 高スループット、安定プロセスを実現した、第8.5〜10世代CF基板対応新型インラインスパッタリングシャッフルカジノ 評判の受注を開始 | |
| 2007年 | 11月 | 従来比5倍の生産性を持つLED・LD向け量産専用ドライエッチングシャッフルカジノ 評判「NE-950」を販売開始 |
| 10月 | China Solar Powerが中国の薄膜太陽電池市場に参入、アルバックとStrategic Allianceを結ぶ | |
| 9月 | 日本真空工業会表彰にて「有機EL生産シャッフルカジノ 評判の開発」が会長賞を、「真空機器溶接技術の確立」が技能賞を受賞 | |
| 8月 | 次世代HDD用磁気ヘッドの作製プロセスシャッフルカジノ 評判を開発 | |
| Sunner Solar Corporationが太陽電池業界に参入、アルバックが製造シャッフルカジノ 評判を一括受注 | ||
| 6月 | 高集積PCRAM用成膜シャッフルカジノ 評判を新たに開発 -GST（Ge2 Sb2 Te5 ）膜埋め込みスパッタリングを実現- |
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| 4月 | ADY2007製造シャッフルカジノ 評判部門で「第8世代以降対応液晶CF/PDP用スパッタリングシャッフルカジノ 評判SDP-sシリーズ」がグランプリを受賞 | |
| 3月 | NexPower Technology社が太陽電池市場に参入、アルバックが製造シャッフルカジノ 評判を一括受注 | |
| 1月 | 超高真空対応新型スパッタシャッフルカジノ 評判jsputter「JSP-8000」を販売開始 | |
| 2006年 | 11月 | 分子間相互作用定量QCMシャッフルカジノ 評判「AFFINIX Qシリーズ」新機種の販売開始 AFFINIX QN（アフィニクスキューエヌ） |
| 10月 | 最先端光学膜成膜シャッフルカジノ 評判を開発、販売展開 | |
| SiGeエピ膜を低温で成長するシャッフルカジノ 評判を開発 -SOIとソース/ドレインへの選択エピSiGe適用が可能- |
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| 9月 | 長寿命対応の高周波(RF)イオンガンの販売を開始 | |
| 初期放電電流特性を高めたリニアイオンガンの販売を開始 | ||
| MEMS用PZT圧電素子作製シャッフルカジノ 評判を新たに開発 | ||
| 超低コスト化を実現、簡便性を追求した残留ガス分析計/プロセスガスモニタQulee(クリー)シリーズを発売 | ||
| 3層連続処理で高生産性、省スペース、環境対応を実現した自動車部品用新型スパッタリングシャッフルカジノ 評判の販売を開始 | ||
| 8月 | ガス放出の少ないアルミニウム合金耐食処理法（スーパーアルピカ）を開発 | |
| 7月 | 次世代LSI向け低比誘電率層間絶縁膜材料及び絶縁膜付きウエハの販売を開始 | |
| 6月 | RoHS対応、小型化、高性能化を図った新型クロマトグラム取込器ChromatoDAQ IIを発表 | |
| スループット向上の鍵を握る最新作ダブルアーム型真空搬送ロボットULSTA‐300を発表 | ||
| 2005年 | 11月 | パワーデバイス市場に新型イオン注入シャッフルカジノ 評判を2機種（SOPHI、IH‐860DSIC）投入 |
| 7月 | 当社技術高純度ガスのシールド法を搭載する多目的1室型真空熱処理シャッフルカジノ 評判（FHBシリーズ）を国内市場に投入 | |
| 5月 | 日本真空工業会第5回表彰で「低抵抗ITO透明導電膜の開発」がフジサンケイビジネスアイ社長賞、「真空シャッフルカジノ 評判製作にTi溶接法を用いての貢献」が技能賞を受賞 | |
| 世界初の基板上垂直かつ選択成長を可能にしたカーボンナノチューブ成長シャッフルカジノ 評判（半導体向）、とアーク方式カーボンナノチューブ（シングウォールタイプ）製造シャッフルカジノ 評判を発表 | ||
| 4月 | 新製品、液晶滴下・貼り合せシャッフルカジノ 評判「Vシリーズ」、PDPパネル点灯試験シャッフルカジノ 評判「BMシリーズ」、アッシングシャッフルカジノ 評判「NA−1000／1300」、エッチングシャッフルカジノ 評判「ALBA」、ウェーハバンプ検査機「IS−300／3300」を発表 | |
| 2004年 | 2月 | 米国JDSユニフェーズ社が特許を取得しているメタモード®スパッタリングと呼ばれている光学膜用スパッタリングシャッフルカジノ 評判に関するグローバルな専用実施権付ライセンス契約を締結 |
| 2003年 | 11月 | リソグラフィーなどMEMSの加工ラインを整備し、成膜・エッチングからダイシング・ボンディングまでの一貫ラインを立上げ、MEMSファンドリーサービスを開始 |
| 8月 | 低温ポリシリコンTFT用固体グリーンレーザアニールシャッフルカジノ 評判を開発（三菱電機（株）が開発した「高出力200W固体グリーンレーザ発振器」を搭載） | |
| 5月 | ドライポンプ省電力化アタッチメント「ECO-SHOCK」が「第3回日本真空工業会・日本工業新聞社社長賞」を受賞 | |
| 蒸着重合による抗菌性ポリイミド膜被覆シャッフルカジノ 評判を開発 | ||
| 2月 | 次世代半導体向け Low-k 膜の販売及び委託成膜業務開始 | |
| 1月 | ドライポンプ省電力化アタッチメント「ECO-SHOCK」が（社）日本機械工業連合会の「第23回優秀省エネルギー機器日本機械工業連合会会長賞」を受賞 | |
| 2002年 | 12月 | アルミ（AI）CVDシャッフルカジノ 評判を用いたAI埋め込みシャッフルカジノ 評判を開発 |
| MRAM用TMR膜形成量産超高真空スパッタシャッフルカジノ 評判を開発 | ||
| バイアスモジュレーションSIS（Self Ionized Sputtering）法によるCu配線シャッフルカジノ 評判を発表 | ||
| 6月 | 可視光応答型光触媒膜作製シャッフルカジノ 評判及び評価シャッフルカジノ 評判を発表 | |
| 3月 | 大面積高輝度平面ランプの開発 | |
| 2001年 | 7月 | Cat-CVD法を利用した大型基板成膜シャッフルカジノ 評判を開発 |
| 3月 | 省スペース、低価格を実現した大型液晶パネル用液晶注入・封止一貫シャッフルカジノ 評判を発表 | |
| 2000年 | 8月 | 新型Low-K材料を発表 |
| 7月 | 米国の半導体関連の調査法人、VLSI Research社から「2000年度の顧客満足度の優れた10社」に選ばれ、3年連続の受賞 | |
| 有機EL作製シャッフルカジノ 評判「SATELLA」が第5回アドバンスト・ディスプレイ・オブ・ザ・イヤーシャッフルカジノ 評判部門でグランプリを受賞 | ||
| 4月 | 米国コダック社、三洋電機（株）と有機ELディスプレイ製造シャッフルカジノ 評判の開発で技術提携 | |
| 1999年 | 11月 | 300mmウェーハ対応で低価格・省スペースを実現した量産用メタライゼーションシャッフルカジノ 評判「ENTRON」を開発 |
| 次世代Cu配線用スパッタシャッフルカジノ 評判「セルフ・アイオナイズド・スパッタ（SIS）」を開発 | ||
| 産業機器事業部がISO 9001を取得、これにより全社の部署で同認証を取得完了 | ||
| 7月 | 米国の半導体関連調査法人、VLSI Research社から「1999年度の顧客満足度の優れた10社」に選ばれ2年連続の受賞 | |
| 次世代Cu配線のバリア膜形成用「マルチ・カソード・スパッタ（MCS）及び「WN用CVDシャッフルカジノ 評判」を開発 | ||
| 第4回アドバンスト・ディスプレイ・オブ・ザ・イヤー'99で「低温ポリシリコンTFT生産用プラズマCVDシャッフルカジノ 評判CMD-450BHT」がシャッフルカジノ 評判部門でグランプリ受賞 | ||
| 4月 | 米国ラムトロン社と「次世代強誘電体メモリ」の開発で全面提携 | |
| 第2半導体事業部がISO 9001認証取得 | ||
| 3月 | 超高真空事業部、制御機器事業部がISO 9001認証取得 | |
| 1998年 | 7月 | 米国の半導体関連調査法人であるVLSI Research社より、「最も顕著な改善を行ったシャッフルカジノ 評判サプライヤー」の評価を受ける |
| LCD製造用スパッタリングシャッフルカジノ 評判「SMD-850」が第3回アドバンスト・ディスプレイ・オブ・ザ・イヤー'98優秀賞を受賞 | ||
| 電子機器事業本部、第1電子機器事業部、第2電子機器事業部及び制御機器事業部・購買部・配送など関連部門がISO 9001認証取得 | ||
| 4月 | 規格品事業部がISO 9001認証取得 | |
| NLDプラズマ源方式高密度エッチングシャッフルカジノ 評判「NLD-8000/800」を開発 | ||
| 1997年 | 7月 | プラズマディスプレイ用「MgO膜蒸着シャッフルカジノ 評判ECHシリーズ」が第2回アドバンスト・ディスプレイ・オブ・ザ・イヤー'97グランプリを受賞 |
| 5月 | 有機EL作成シャッフルカジノ 評判を3機種開発し販売を開始 | |
| 4月 | 米国ラムトロン社と次世代半導体メモリであるFRAM の量産化に向けた強誘電体薄膜形成に関する共同開発契約を締結 | |
| ヘリウムリークディクタ「HELIOT」が機械振興協会主催の第27回新機械開発賞を受賞 | ||
| 1996年 | 7月 | 次世代液晶ディスプレイパネル製造用イオン注入シャッフルカジノ 評判「IL-100」が、アドバンスト・ディスプレイ・オブ・ザ・イヤー'96優秀賞を受賞 |
| 1995年 | 9月 | ヘリウムリークディクタ「HELIOT 301」が「通産省選定・平成7年度グッドデザイン商品」に輝く |
| 4月 | 富士裾野工場においてISO 9001の認証を取得 | |
| 2月 | 液晶ディスプレイパネル製造用スパッタリングシャッフルカジノ 評判「SMD-450」が、'94日経年間優秀製品賞を受賞 | |
| 1994年 | 9月 | 次世代半導体プロセス用低圧ロングスロースパッタ（LTS）法を開発 |
| 1993年 | 10月 | 極めて放出ガスの少ない極高真空用材料及びこれらの放出ガスを正確に測定する方法を開発 |
| 1993年 | 5月 | 極・超高真空用高性能スパッタイオンポンプ「アクターポンプ」を発売 |
| 1月 | 脱フロン・エタン用真空脱脂洗浄シャッフルカジノ 評判を開発 | 1991年 | 12月 | 半導体製造用超高真空対応マルチチャンバ成膜シャッフルカジノ 評判CERAUSシリーズを発売 |
| 1990年 | 1月 | カナダ中央銀行が当社製の真空巻取蒸着シャッフルカジノ 評判を利用してニセ札防止用デバイス付き新50ドルを発行 |
| 1989年 | 8月 | 筑波超材料研究所で「蒸着重合法による機能性高分子薄膜」を開発 |
| 5月 | 低抵抗ITO膜用スパッタリングシャッフルカジノ 評判「SDPシリーズ」を開発 | |
| 1988年 | 10月 | アッシングシャッフルカジノ 評判「UNA-2000」を開発 |
| 5月 | 超電導成膜用スパッタリングシャッフルカジノ 評判「SHシリーズ」を発売 | |
| 1987年 | 12月 | （株）安川電機と共同で磁気浮上搬送系を開発 |
| 9月 | メタルCVDシャッフルカジノ 評判「ERA-1000」がIR-100に入選、シカゴで表彰される | |
| 1985年 | 12月 | 世界初のマルチチャンバ型スパッタリングシャッフルカジノ 評判MCH-9000シリーズを発売 |
| 11月 | 真空冶金（株）は、H-IIロケット用エンジンの心臓部であるTi合金鋳物エルボケーシングを納入 | |
| 3月 | 日本原子力研究所那珂研究所へ臨界プラズマ試験シャッフルカジノ 評判（JT-60）の真空排気システムを納入 | |
| 1982年 | 2月 | 大電流型イオン注入シャッフルカジノ 評判IM-80Hを開発 |
| 1980年 | 9月 | ロケット用超大型真空熱処理炉完成 |
| 5月 | 光化学スモッグチャンバを開発し、公害研究所へ納入、建設大臣から感謝状を受ける | |
| 全自動ヘリウムリークディテクタを開発 | ||
| 1979年 | 1月 | プラズマCVDシャッフルカジノ 評判を開発 |
| 1978年 | 10月 | カセットトゥカセットスパッタリングシャッフルカジノ 評判を開発 |
| 4月 | 水晶振動子及び光学用薄膜製造シャッフルカジノ 評判の専門メーカーである株式会社昭和真空と提携 | |
| 1976年 | 4月 | イオン浸炭シャッフルカジノ 評判を開発 |
| 1975年 | 10月 | 米国IBM社からコンピュータ制御による全自動真空蒸着シャッフルカジノ 評判を大量受注 |
| 6月 | 国産第一号のイオン注入シャッフルカジノ 評判を開発 | |
| 1974年 | 12月 | 日本原子力研究所東海研究所へ納入の核融合実験シャッフルカジノ 評判の排気系完成 |
| 10月 | 世界最大の気相乾燥シャッフルカジノ 評判完成 | |
| 1月 | 透明導電膜を開発 | |
| 1970年 | 10月 | 高周波連続式スパッタリングシャッフルカジノ 評判を開発 |
| 2月 | 世界最大の大型可塑材プラントを完成 | |
| 1月 | マスフィルタ型の質量分析計を開発 | |
| 1969年 | 10月 | 国産第一号の低周波溶解脱ガス炉（25トン）完成 |
| 1968年 | 12月 | 自動洩れ探しシステム（ALT）を開発 |
| 11月 | 新事業開発事業団より委託された超電導マグネット用導線の開発に成功 | |
| 1967年 | 3月 | ライプチヒ国際見本市で低速電子回折シャッフルカジノ 評判が金賞受賞 |
| 1965年 | 11月 | 東大宇宙研へ大型スペースチャンバを納入 |
| 1963年 | 11月 | チタン鋳造バルブが工業シャッフルカジノ 評判院長賞を受賞 |
| 1962年 | 11月 | 超高真空バルブが科学シャッフルカジノ 評判庁長官奨励賞を受賞 |
| 1961年 | 3月 | 通産省補助金による「60kW電子衝撃式真空溶解炉」完成 |
| 小型拡散ポンプが科学シャッフルカジノ 評判庁長官奨励賞を受賞 | ||
| 1959年 | 9月 | 科学シャッフルカジノ 評判庁原子力補助金による「ウラン及びウラン合金の真空溶解鋳造炉の研究」に成功 |
| 1957年 | 9月 | 国産100kg誘導加熱式真空溶解炉を開発 |
| 1954年 | 11月 | 回転冷却器を開発 |
| 1952年 | 8月 | 会社設立と同時に、シャッフルカジノ 評判陣容に東大嵯峨根研究室から林主税、橋本光一、熊谷研究室から柴田英夫が加わる |
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