シャッフルカジノ ログイン施設

茅ヶ崎本社・工場
〒253-8543　神奈川県茅ヶ崎市萩園2500
TEL:0467-89-2033

先進技術シャッフルカジノ ログイン所は 2020年4月に技術開発部、超材料シャッフルカジノ ログイン所、半導体電子技術シャッフルカジノ ログイン所、未来技術シャッフルカジノ ログイン所のシャッフルカジノ ログイン部門を統合、『先進技術シャッフルカジノ ログイン所』として生まれ変わりました。未来の装置、成膜技術、材料開発をはじめ、メカトロ技術、シミュレーション技術、分析技術により各種装置の高機能、高信頼性、高生産性を目指した革新的次世代製造技術の実現に向けて開発を進めています。

富士裾野事業所
〒410-1231　静岡県裾野市須山1220-1
Tel：055-998-1555

裾野では、半導体デバイスのDRAM, 3D NANDに加え、最先端ロジックや不揮発性メモリ工程用の製造装置・プロセス開発を行っております。
さらに通信デバイスをはじめとした電子部品用の製造装置・プロセス開発を行っております。

千葉富里事業所
〒286-0225　千葉県富里市美沢10-2
Tel：0476-90-6222

富里では、FPD・電子部品・各種フィルム用の広範囲な分野の薄膜形成プロセス、および酸化物半導体、配線用金属材料などの開発を行っています。

韓国京畿道平澤市靑北邑靑北産団路165
Tel：+82-31-683-2922

次世代半導体製造装置の開発およびプロセス開発を韓国内のお客様と共に推進し、量産技術の確立を目指しています。

大阪大学 吹田キャンパス
〒565-0871　大阪府吹田市山田丘2-1 センテラス棟4階
Tel：06-6105-6476

次世代デバイスにイノベーションを創出できる材料や技術を提案するとともに、地球環境・エネルギー問題を解決できる革新的な技術の提案を目指しています。

2018年11月より大阪大学の産学連携の枠組みを通じて、相互のシャッフルカジノ ログイン者の人財交流を図り、シャッフルカジノ ログイン開発ネットワークを構築するとともに、医工学分野における学術の発展、技術課題の解決、および創造力豊かな大学の人財育成への貢献を目指しています。

東京科学大学 大岡山キャンパス
〒152-8550　東京都目黒区大岡山2-12-1

2021年9月、東京科学大学（旧：東京工業大学）の持つプラズマ測定技術とAI技術を融合させ、プラズマの状態を計測することにより、プラズマプロセス装置高性能化のため設置しました。異なる分野のシャッフルカジノ ログイン室のシナジー効果で、個別の共同シャッフルカジノ ログインでは得られない新たなシャッフルカジノ ログイン成果が生まれることを目指しています。

また組織対組織の連携を生かし、共同シャッフルカジノ ログインのみにとどまらず人材育成なども含めた幅広いつながりで、アルバックと東京科学大学双方の将来の発展につなげていきます。