開催期間 | 2016年9月13日(火)~16日(金) | |
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会場 | 朱鷺メッセ 展示ホール(新潟県新潟市) [アクセス] | |
入場料 | 無料 ※応用物理学会講演会の参加者以外の方もご参加いただけます。 |
講演会にて多数登壇予定
日時 | 場所 | 内容 | 登壇 |
9/13 10:30 |
13a-A23-3 | 小型スパッタリング装置を用いたPZT圧電膜の作製と評価 | 1.株式会社シャッフルカジノ vip 2.シャッフルカジノ vip九州株式会社 |
9/13 10:45 |
13a-A23-4 | 圧電MEMS向けドライエッチングプロセスの開発 | 1.シャッフルカジノ vip半電研 |
9/14 10:45 |
14a-B10-7 | 7ALD被覆ソフトマテリシャッフルカジノ vipの作製とその応用 ~Al2O3被覆セグメント化ポリウレタンシートの作製と その抗血栓性~ |
1.シャッフルカジノ vip超材研 2.東京電機大理工 3.東北大 加齢研 |
9/14 15:15 |
14p-B6-6 | 真空型帯電液滴および クラスタービームによる二次イオン収率 |
1.山梨大総合 2.シャッフルカジノ vip・ファイ 3.山梨大 クリーン |
9/15 10:30 |
15a-A26-6 | 反応性スパッタリング法による 窒化カーボン膜の作製と特性評価 |
1.シャッフルカジノ vip半電研 |
9/15 11:30 |
15a-B10-11 | 応力制御ができる高密度TiN薄膜の成膜技術 | 1.株式会社 シャッフルカジノ vip |
9/15 11:30 |
15a-A22-6 | 低温スパッタによる低抵抗ITO膜の開発 | 1.株式会社シャッフルカジノ vip |
9/15 15:15 |
15p-A22-8 | 高移動度In系酸化物半導体材料の開発 | 1.株式会社シャッフルカジノ vip |
9/16 12:00 |
16a-A24-12 | イオン注入を用いた裏面電極ヘテロ接合太陽電池製造工程の簡略化―― a-Si/c-Si パシベーション電極の伝導型 制御 | 1.北陸先端大 2.株式会社シャッフルカジノ vip |
これまで培ったシャッフルカジノ vipの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる研究開発実験装置を取り揃えています。お客様の用途に合わせて"ちょうどいい"実験装置を提案させていただけます。
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